ICP-CVD制备氟化非晶碳(a-CF)薄膜的研究.pdf

  1. 1、本文档共10页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
ICP-CVD制备氟化非晶碳(a-CF)薄膜的研究.pdf

第29卷第1期 真空科学与技术学报 AND,IEC硼010GY 61 2009年1、2月 CH嘲JOI艉NAI.OFVACU咖SC心CE 谷建东1·2李东明2冯志庆1牛金海1 刘东平1’ (1.大连民族学院光电子技术研究所大连116605;2.大连交通大学机械工程学院大连116028) Growth of andCharacterizationFluorinatedCarbon Amorphous Plasma Films Chemical byInductivelyCoupled VaporDeposition Gu P,Li Jinhail,Liu Jiandon91Donsmin孑,FengZhiqin91,Niu Dongpin91。 (1./nst/tute ofOptoe/earon/c扬幽lo研,蚍舭痂擞(梳嘶,‰116605,Ch/na; 2.School 1 16028,Ch/na) ofMechan/碰励驴咖,Da//anJ/aotong‰妙,Da//an AbstractThe fluorinated were chemical amorphous carbon(a-C:F)filmsdepositedbyinductivelycoupledplasma microstmcturesand werecharacterizedwithatomicforce vapordeposition(ICP-CVD).The properties microscopy Fouriertransforminfrared ofthe (AFM),X-rayphotoelectronspectroscopy(XPS)and spectroscopy(F13R).Theimpacts film the andsubstrate gowthconditions,includingdischargeiiK)de,pressure,RFpower,sIlbsⅡa|[etemperature position,on ofthefilmswere three the studied.Theresultsshowthat the andsub· quality factors,includingdischargemode,pressure strate affectthesurface and a RF the position,strongly roughne88stoichiometry.Forexample,withpulsedplasma,aspres· suIe firstincreasesandthen thefarthe

文档评论(0)

rewfdgd + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档