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电子工艺技术 第29卷第6期
314 Electronics
Process
Technology 2008年11月
低温纳米压印技术制备微纳图案的研究
孙洪文1，刘景全2．陈迪2
(1．河海大学，江苏 常州213022；
2．上海交通大学微纳科学技术研究院微米／纳米加工技术国家重点实验室，上海200030)
摘要：纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上，然后用印章压印使其复制印章图
案。采用低玻璃化温度的su一8
2000．I和Hybrane胶体转移图案，能够在低温、甚至室温下实现
微纳图案的转移。采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案。从而避免了
传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤；并且采用FIB方法可同时在衬底
上刺备微米、纳米尺度的图案。实验结果表明用lqB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印
章，经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制。
关键词：纳米压印；低温；聚焦离子束；纳米印章；微纳图案：图案复制
中图分类号：TP271 文献标识码：A
Researchon Fabricationbasedon
Micro／nanopattern
atLow
NanoimprintLithographyTemperature
SUN Di2
Hong—wen‘，LIUJing—quan2，CHEN
21
(1．HehaiUniversity，Changzhou3022，China；
2．ShanghaiJiaotongUniversity，Shanghai200030，China)
a to whenthe
Abstract：Nanoimprintreplicatespatternsbyusingstamp
imprintpolymer polymer
heated its transistion SU一82000．1and were
beyondglass temperature(Tg)．Novelpolymers Hybrane
totransfer caHbeusedto atlow withloom
employed patterns．They replicatepattternstemperature．even
thesame fabricationmehodfocusedion di-
temperature．Attime，newimprintstamp using beam(FIB)to
etchsubstratewasresearched．Itthetraditionale—beam canceledtheRIE
rectly replaced methodand
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