磁控溅射镀膜技术的发展_余东海.pdf

DOI:10.13385/j .cnki.vacuum.2009.02.026 DOI:10.13385/j .cnki.vacuum.2009.02.026 2/20/2020 磁控溅射镀膜技术的发展 - 余东海 - 百度文库 Vol. 46, No. 2 46 2 Vol. 46, No. 2 46 2 第 卷第 期 第 卷第 期 VACUUM 真 空 VACUUM 真 空 Mar. 2009 2009 3 Mar. 2009 2009 3 年 月 年 月 网页 资讯 视频 图片 知道 文库 贴吧 采购 地图 | 百度首页 登录 VIP新客立减2元 意见反馈 下载客户端 磁控溅射镀膜技术的发展 磁控溅射镀膜技术的发展 余东海，王成勇，成晓玲，宋月贤 余东海，王成勇，成晓玲，宋月贤 首页 分类 精品内容 申请认证 机构合作 频道专区 会员中心 510006 （广东工业大学机电学院， 广东 广州 510006） （广东工业大学机电学院， 广东 广州 ） 百度文库 专业资料 工程科技 材料科学 摘 要：磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛，成为工业镀膜生产中最主要的技术之一，相应的溅 摘 要：磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛，成为工业镀膜生产中最主要的技术之一，相应的溅 。 。 射技术与也取得了进一步的发展 非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布，提高了膜层质量；中 射技术与也取得了进一步的发展 非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布，提高了膜层质量；中 频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象，消除靶中毒和打弧问题，提高制备