大学有机化学期末复习知识点总结[共23页].docVIP

有 机 化 学 复 习 总 结 一．有机化合物的命名 1. 能够用系统命名法命名各种类型化合物： 包括烷烃，烯烃，炔烃，烯炔，脂环烃（单环脂环烃和多环置换脂环烃中的螺环烃和桥 环烃），芳烃，醇，酚，醚，醛，酮，羧酸，羧酸衍生物（酰卤，酸酐，酯，酰胺） ，多官能 团化合物（官能团优先顺序：－ COOH ＞－SO3H ＞－COOR ＞－COX ＞－CN ＞－CHO ＞C＝O＞－OH(醇)＞－OH(酚)＞－SH＞－NH2＞－OR＞C＝C＞－C≡C－＞(－R＞－X ＞－NO2)，并能够判断出 Z/E 构型和 R/S 构型。 2. 根据化合物的系统命名，写出相应的结构式或立体结构式（伞形式，锯架式，纽曼投影 式，Fischer 投影式）。 立体结构的表示方法： COOH CH3 1）伞形式： H C 2）锯架式： OH H3C H H OH C2 H5 OH H H H H H COOH 3） 纽曼投影式： 4）菲舍尔投影式： H OH H H H H H CH3 H H 5）构象(conformation) (1) 乙烷构象：最稳定构象是交叉式，最不稳定构象是重叠式。 (2) 正丁烷构象：最稳定构象是对位交叉式，最不稳定构象是全重叠式。 (3) 环己烷构象：最稳定构象是椅式构象。一取代环己烷最稳定构象是 e 取代的椅 式构象。多取代环己烷最稳定构象是 e 取代最多或大基团处于 e 键上的椅式构象 立体结构的标记方法 1. Z/E 标记法：在表示烯烃的构型时， 如果在次序规则中两个优先的基团在同一侧， 为Z 构型，在相反侧，为 E 构型。 2、 顺/反标记法：在标记烯烃和脂环烃的构型时，如果两个相同的基团在同一侧， 则为顺式；在相反侧，则为反式。 3、 R/S 标记法：在标记手性分子时， 先把与手性碳相连的四个基团按次序规则排序。 然后将最不优先的基团放在远离观察者，再以次观察其它三个基团，如果优先顺序是顺 时针，则为 R 构型，如果是逆时针，则为 S 构型。 注：将伞状透视式与菲舍尔投影式互换的方法是：先按要求书写其透视式或投影式，然后分 别标出其 R/S 构型，如果两者构型相同，则为同一化合物，否则为其对映体。 二. 有机化学反应及特点 1. 反应类型 自由基反应 自由基取代：烷烃卤代、芳烃侧链卤代、烯烃的 α－H卤代 自由基加成：烯 , 炔的过氧化效应 还原反应（包括催化加氢） ：烯烃、炔烃、环烷烃、芳烃、卤代烃 亲电加成：烯、炔、二烯烃的加成，脂环烃小环的开环加成 亲电取代：芳环上的亲电取代反应 氧化反应：烯烃的氧化（高锰酸钾氧化，臭氧氧化，环氧化） ；炔烃高锰酸钾氧化，臭氧氧 亲核取代：卤代烃、醇的反应，环氧乙烷的开环反应，醚键断裂 反应类型 离子型反应 反应 , 卤苯的取代反应 (按历程分 ) 亲核加成：炔烃的亲核加成 化；醇的氧化；芳烃侧链氧化，芳环氧化） 消除反应：卤代烃和醇的反应 2. 有关规律 协同反应：双烯合成 1）马氏规律：亲电加成反应的规律，亲电试剂总是加到连氢较多的双键碳上。 2）过氧化效应：自由基加成反应的规律，卤素加到连氢较多的双键碳上。 3）空间效应：体积较大的基团总是取代到空间位阻较小的位置。 4）定位规律：芳烃亲电取代反应的规律，有邻、对位定位基，和间位定位基。 5）查依切夫规律：卤代烃和醇消除反应的规律，主要产物是双键碳上取代基较多的烯烃。 6）休克尔规则： 判断芳香性的规则。 存在一个环状的大π键， 成环原子必须共平面或接近共 平面，π电子数符合 4n+2 规则。 7）霍夫曼规则：季铵盐消除反应的规律，只有烃基时，主要产物是双键碳上取代基较少的 烯烃（动力学控制产物） 。当β－碳上连有吸电子基或不饱和键时，则消除的是酸性较强 的氢，生成较稳定的产物（热力学控制产物） 。 8）基团的“顺序规则” 3. 反应中的立体化学 烷烃： 烷烃的自由基取代：外消旋化 烯烃： 烯烃的亲电加成： 溴，氯， HOBr（HOCl ），羟汞化-脱汞还原反应 -----反式加成 其它亲电试剂：顺式 +反式加成 烯烃的环氧化，与单线态卡宾的反应：保持构型 烯烃的冷稀 KMnO 4/H2O 氧化：顺式邻二醇 烯烃的硼氢化 -氧化：顺式加成 烯烃的加氢：顺式加氢 环己烯的加成（ 1-取代，3-取代，4-取代） 炔烃： 选择性加氢： Lindlar 催化剂-----顺式烯烃 Na/NH 3（L）-----反式加氢 亲核取代： SN1：外消旋化的同时构型翻转 SN2：构型翻转（ Walden 翻转） 消除反应： E2，E1cb: 反式共平面消除。 环氧乙烷的开环反应： 反式产物 四．概念、物理性质、结构稳定性、反应活性 （一）.概念 CH3 碳架异构 H2C C H CH 2CH 2 H2C C CH 3 构造异构 位置异构