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第二章 IC制造材料;固体材料:超导体: 大于106(?cm)-1
导 体: 106~104(?cm)-1
半导体: 104~10-10(?cm)-1
绝缘体: 小于10-10(?cm)-1;;;2.2 硅材料的分类;2、按纯度分:;3、按结构分:;单晶硅锭及硅片;;?2.3 硅材料的制备
由于硅的纯度对芯片或太阳电池有很重大的影响,所以工业生产要求使用高纯硅,以满足器件质量的需求。在硅材料的提纯工艺流程中,一般说来,化学提纯在先, 物理提纯在后。原因是:一方面化学提纯可以从低纯度的原料开始,而物理提纯必须使用具有较高纯度的原料;另一方面是化学提纯难免引入化学试剂的污染,而物理提纯则没有这些污染。
概况 由硅石?粗硅?高纯多晶硅(纯度在99.9999999%以上)?单晶硅
;1. 粗硅的制备
??粗硅 又称工业硅或结晶硅(冶金级硅),纯度在95%?99%。这种硅是石英砂在电炉中用碳还原方法冶炼而成的。
??反应要点:高温1600℃?1800℃
??原因:SiO2(s)十2C(s)=Si(s)十2CO(g)
??粗硅中杂质多,主要有Fe、Al、C、B、P、Cu 等,其中Fe 含量最多。可用酸洗法初步提纯,高纯硅还需进一步提纯。
;2. 多晶硅的制备
??由粗硅合成SiHCl3 (改良西门子法)或SiCl4或SiH4中间体,精馏提纯后,用氢气还原或热分解而制得多晶硅
??三种方法各有特点,改良西门子法是当前制取多晶硅的主要方法
??SiHCl3的制备 多用粗硅与干燥氯化氢在200℃以上反应 Si十3HCl==SiHCl3+H2
除生成SiHCl3外,还可能生成SiH4、SiH3Cl、SiH2Cl2、SiCl4等各种氯化硅烷,其中主要的副反应是
2Si十7HCl=SiHCl3十SiCl4十3H2;?? SiHCl3性质 又称硅氯仿,结构与SiCl4相似,为四面体型。SiHCl3稳定性稍差,易水解
SiHCl3十2H2O==SiO2十3HCl十H2
??注意要点
(1)合成温度宜低,温度过高易生成副产物。常加少量铜粉或银粉作为催化剂
(2)反应放热,常通入Ar或N2带走热量以提高转化率
(3)须严格控制无水无氧。因SiHCl3水解产生的SiO2会堵塞管道造引起事故。而氧气则会与SiHCl3或H2反应,引起燃烧或爆炸;??SiHCl3的提纯
精馏 利用杂质和SiHCl3沸点不同用精馏的方法分离提纯
??多晶硅的制备
精馏提纯后的SiHCl3用高纯氢气还原得到多晶硅
SiHCl3十H2==Si十3HCl
上述反应是生成SiHCl3的逆反应。反应得到的多晶硅还不能直接用于生产电子元器件,必须将它制成单晶体并在单晶生长过程中“掺杂”,以获得特定性能的半导体。;;;2.4 多晶硅材料相关产业链产品 ;半导体用硅材料产业链 ;硅系太阳能电池产业链;9、青少年是一个美好而又是一去不可再得的时期,是将来一切光明和幸福的开端。。6月-206月-20Wednesday, June 3, 2020
10、人的志向通常和他们的能力成正比例。20:59:2120:59:2120:596/3/2020 8:59:21 PM
11、夫学须志也,才须学也,非学无以广才,非志无以成学。6月-2020:59:2120:59Jun-2003-Jun-20
12、越是无能的人,越喜欢挑剔别人的错儿。20:59:2120:59:2120:59Wednesday, June 3, 2020
13、志不立,天下无可成之事。6月-206月-2020:59:2120:59:21June 3, 2020
14、古之立大事者,不惟有超世之才,亦必有坚忍不拔之志。03 六月 20208:59:21 下午20:59:216月-20
15、会当凌绝顶,一览众山小。六月 208:59 下午6月-2020:59June 3, 2020
16、如果一个人不知道他要驶向哪头,那么任何风都不是顺风。2020/6/3 20:59:2120:59:2103 June 2020
17、一个人如果不到最高峰,他就没有片刻的安宁,他也就不会感到生命的恬静和光荣。8:59:21 下午8:59 下午20:59:216月-20
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