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预见2020:中国PVD设备产业全景图(附产业政策、市场规模、竞争格局等)
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PVD(物理气相沉积)技术即在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。其早在20世纪初已有些应用,但30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术,目前其主要应用于半导体制造的流程之中,在注塑模具,五金模具以及机械与化工领域均有应用。
PVD设备则是PVD技术的载体,其主要由泵、溅射装置、真空测量和检漏系统组成。
产业政策——对于PVD设备较为重视
从政策环境上来看,我国对于PVD设备较为重视,其主要体现在相关政策对于发展半导体设备的支持。如《“十三五”国家科技创新规划》中,薄膜设备(PVD设备、CVD设备等)被列为国家需要攻克的高端制造装备;《国家高新技术产业开发区“十三五”规划》中也提到,要推进集成电路关键装备的关键核心技术突破与应用。
技术工艺——应用范围不断扩展
PVD最初的研制主要用于制造人造卫星需要耐磨的零部件,随着其处理技术不断发展,PVD技术的应用范围也开始不断扩展。
目前,PVD已经演化出了较为固定的气化、迁移和沉积的流程,且根据不同的材料与下游应用,演化出了不同的PVD技术。
竞争格局——应用材料占据大头
全球PVD设备市场,应用材料(AMAT)基本上实现了垄断。SEMI数据显示,AMAT所占全球PVD市场份额约为85%,其次为Evatec和Ulvac,分别占6%和5%。
市场规模——市场规模稳定增长
近年来,全球PVD设备市场稳步增长,2019年,全球PVD设备市场规模已超过25亿美元。虽然2020年,全球经济受到新冠疫情的冲击,呈现出明显的下行态势,但PVD设备下游领域增长十分强劲,预计自2021年起,全球PVD镀膜机的消费量将进一步呈现上升趋势, 2025年市场规模将达到32.51亿美元左右。
国产化分析——国产化率不断提升
近年来,我国PVD设备制造工艺不断进步,PVD设备国产化率不断上升,截至2019年,我国PVD设备国产化率已达到15%左右。但从我国PVD设备制造技术的进展情况来看,部分类型的产品我国仍暂无生产能力,与海外龙头企业之间仍存在一定的差距。
以上数据来源于《中国半导体产业战略规划和企业战略咨询报告》,同时提供产业大数据、产业规划、产业申报、产业园区规划、产业招商引资等解决方案。
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