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《薄膜材料与薄膜技术》复习题
1. 薄膜材料与体材料的联系与区别。
1. 薄膜所用原料少,容易大面积化,而且可以曲面加工。例:金箔、饰品、太
阳能电池,GaN,SiC,Diamond
2. 厚度小、比表面积大,能产生许多新效应。如: 极化效应、表面和界面效
应、耦合效应等。
3. 可以获得体态下不存在的非平衡和非化学计量 比结构。如:Diamond: 工业
合成, 2000℃,5.5 万大气压, CVD 生长薄膜:常压,800 度.Mgx Zn1-x O: 体相
中Mg 的平衡固溶度为 0.04, PLD 法生长的薄膜中,x 可 0~1.
4. 容易实现多 层膜,多功能 薄膜。如:太 阳能电池、超 晶格: GaAlAs/GaAs
5. 薄膜和基片的粘附性, 一般由范德瓦耳斯力、静电力、表面能(浸润)和
表面互扩散决定。范德瓦耳
2. 真空度的各种单位及换算关系如何?
1pa=1N/m2 5
(1atm)≈1.013×10Pa(帕)
1Torr≈1 / 760atm≈1mmHg
1Torr≈133Pa≈102 Pa
1bar = 0.1MPa
3. 机械泵、扩散泵、涡轮分子泵和低温泵的工作原理是什么?
旋片式机械泵
工作过程:
1. 气体从入口进入转子和定子之间
2. 偏轴转子压缩空气并输送到出口
3. 气体在出口累积到一定压强,喷出到大气
工作范围及特点:
-3
Atmosphere to 10 torr
耐用,便宜
由于泵的定子、转子都浸入油中,每周期都有油进入容器,有污染。
要求机械泵油有低的饱和蒸汽压、一定润滑性、黏度和高稳定性。
油扩散泵
1. 加热油从喷嘴高速喷出,气体分子与油分子碰撞实现动量转移,向出
气口运动,或溶入油中,油冷凝后,重新加热时,排出溶入的气体,并
由出气口抽出;
2. 需要水冷,前级泵
-3 -7 -9
3. 10 to 10 Torr (to 10 Torr,液氮冷阱)
优点: 耐用、 成本低,抽速快 无震动和声音
缺点: 油污染
涡轮分子泵特点:
1. 气体分子被高速转动的涡 轮片撞击,向出口运动
2.多级速度:30,000-60,000 rpm.转子的切向速度与分子运动速率相当
-10
3. Atmosphere to 10 Torr
4. 启动和关闭很快
5. 无油,有电磁污染
6. 噪声大、有振动、比较昂贵.
低温泵(Cryopump)特点:
1.利用 20K 以下的低温表面来凝聚气体分子实现抽气,是目前最高极限真空的
抽气泵;
2.可对各种气体捕集,凝结在冷凝板上,所以工作一段时间后必须对冷凝板加
热“再生”;
3. “再生”必须彻底;
4. 加热“再生”温度 200 °C 烘烤除去吸附的气体
5. 无油污染;
6. 制冷机式低温泵运作成本低, 较常采用。
4. 为什么薄膜的主要PVD 制备技术要在真空中完成?
真空的特点是a 气体分子的平均自由程大
b 单位面积上分子与固体表面碰撞的频率小
c 气体分子密度低
剩余气体对沉积膜的掺杂
想要得到高纯度的薄膜,就必须尽量在较高真空度的环境下,或是在不会与
薄膜材料产生反应的氩气等的惰性气体中进行。
e 改变反应进程
薄膜要求密致,纯度高,针孔小,然后真空可以提高沉积速率,降低对薄膜的
污染
5. 哪些是有油真空泵,哪些是无油真空泵?无油泵有哪些主要点?
机械泵和扩散泵是有油泵,涡轮分子泵,罗兹泵,离子泵,钛升华泵无有油,
6. 叙述热偶规、电离规测量真空度的原理和使用必须的注意事项。
7. 什麽是CVD 和PVD 薄膜制备技术?
8. CVD 过程自由能与反应平衡常数的过程判据是什么?
9. 写出CVD 沉积Si、SiO 、Si N 、GaAs 薄膜的反应方程?各采用什么类型的
2 3 4
CVD 装置?
10. CVD 薄膜沉积的必要条件是什么?
11. 说出APCVD
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