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成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法.pdfVIP

成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法.pdf

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    本发明涉及成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。抑制向静电吸盘的吸附时产生褶皱。成膜装置，其特征在于，包含：第一基板支撑部，配置在腔室内，支撑基板的第一边的周缘部；第二基板支撑部，配置在腔室内，支撑基板的与第一边相向的第二边的周缘部；基板吸附部件，配置在腔室内的第一及第二基板支撑部的上方并用于吸附基板；以及控制部，独立地控制第一及第二基板支撑部向基板吸附部件的升降，控制部在利用基板吸附部件吸附基板时，将第一基板支撑部移动到距基板吸附部件第一距离的第一位置，将第二基板支撑部移动到距基板吸附部件比

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113005398 B (45)授权公告日 2023.04.07 (21)申请号 202011507005.5 H10K 71/16 (2023.01)

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