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本发明公开了一种压敏胶的涂布方法,使用相互配合的涂布刀和涂布辊,所述涂布刀的出胶口与涂布辊上的保护膜原料之间的距离为10‑25um,且涂布刀位于涂布辊的最右侧,涂布辊逆时针转动,涂布刀靠近涂布辊处的出胶口向上倾斜12‑18°,本发明克服了现有技术的不足,有效地消除了保护膜上压敏胶涂布不均容易产生条纹的问题,解决了偏光片良率较低的问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116273756 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310237240.2
(22)申请日 2023.03.13
(71)申请人 合肥三利谱光电科技有限公司
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