材料分析化学期末考试试题.pdf

A 一、 名词解释（共 20 分，每小题 2 分。） 1.辐射的发射 2.俄歇电子 3.背散射电子 4.溅射 5.物相鉴定 6. 电子透镜 7.质 厚衬度 8.蓝移 9.伸缩振动 10.差热分析 二、填空题（共 20 分，每小题 2 分。） 1. 电磁波谱可分为三个部分，即长波部分、中间部分和短波部分，其中中间部分包括 （ ）、（ ）和（ ），统称为光学光谱。 2. 光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分 析的方法。光谱按强度对波长的分布（曲线）特点（或按胶片记录的光谱表观形态）可 分为（ ）光谱、（ ）光谱和（ ）光谱3 类。 3. 分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产 生的散射。分子散射包括（ ）与（ ）两种。 4. X 射线照射固体物质 (样品)，可能发生的相互作用主要有（ ）、 （ ）（ ） 和（ ）等。 5. 多晶体（粉晶）X 射线衍射分析的基本方法为（ ）和（ ）。 6. 依据入射电子的能量大小，电子衍射可分为（ ）电子衍射和（ ）电子衍射。依 据电子束是否穿透样品，电子衍射可分为（ ）电子衍射与（ ）电子衍射。 7. 衍射产生的充分必要条件是（ ）。 8. 透射电镜的样品可分为（ ）样品和（ ）样品。 9. 单晶电子衍射花样标定的主要方法有（ ）和（ ）。 10. 扫描隧道显微镜、透射电镜、X 射线光电子能谱、差热分析的英文字母缩写分别是 （ ）、（ ）、（ ）、（ ）。 三、判断题，表述对的在括号里打“√”，错的打“×”（共10 分，每小题 1 分） 1. 干涉指数是对晶面空间方位与晶面间距的标识。晶面间距为 d /2 的晶面其干涉指数为 110 （220 ）。（ ） 2. 倒易矢量 r* 的基本性质为：r* 垂直于正点阵中相应的（HKL ）晶面，其长度 r* HKL HKL HKL 等于(HKL)之晶面间距 d 的2 倍。（ ）倒数 HKL 3. 分子的转动光谱是带状光谱。（ ） 4. 二次电子像的分辨率比背散射电子像的分辨率低。（ ）高 5. 一束 X 射线照射一个原子列（一维晶体），只有镜面反射方向上才有可能产生衍射。（ ） 6. 俄歇电子能谱不能分析固体表面的 H 和 He。（ ） 7. 低能电子衍射（LEED ）不适合分析绝缘固体样品的表面结构。（ ） 8. d-d 跃迁受配位体场强度大小的影响很大，而f-f 跃迁受配位体场强度大小的影响很小。 （ ） 9. 红外辐射与物质相互作用产生红外吸收光谱必须有分子极化率的变化。（ ） 10. 样品粒度和气氛对差热曲线没有影响。（ ） 四、 单项选择题（共 10 分，每小题 1 分。） 1. 原子吸收光谱是（ ）。 A、线状光谱 B、带状光谱 C、连续光谱 2. 下列方法中，（ ）可用于测定方解石的点阵常数。 A、X 射线衍射线分析 B、红外光谱 C、原子吸收光谱 D 紫外光谱子能谱 3. 合金钢薄膜中极小弥散颗粒 (直径远小于 1m)的物相鉴定，可以选择 （ ）。 A、X 射线衍射线分析 B、紫外可见吸收光谱 C、差热分析 D、多功能透射电镜 4. 几种高聚物组成之混合物的定性分析与定量分析，可以选择（