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实验1硅片氧化层性能测试
预习报告
实验调研1：新型氧化工艺调研
实验报告
氧化层性能测试
1质量要求:二氧化硅薄膜质量好坏，对器件的成品率和性能影响很大。因此要求薄膜表面
无斑点、裂纹、白雾、发花和针孔等缺陷。厚度达到规定指标并保持均匀，结构致密。对薄
膜中可动带电离子，特别是钠离子的含量要有明确的要求。
2检验方法
厚度的检查
测量二氧化硅薄膜厚度的方法很多。如精度不高的比色法，腐蚀法，京都要求稍高的双
光干涉法，电容电压法，还有精度高达10埃的椭圆偏振光法等。
1）比色法利用不同厚度氧化膜，在白色垂
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