GBZT 148-2002 用于中子测井的CR39中子剂量计的个人剂量监测方法.docxVIP

ICS?13.100

C57

GBZ

中华人民共和国国家职业卫生标准

GBZ/T?148-2002

用于中子测井的?CR39

中子剂量计的个人剂量监测方法

Individual?dose?monitoring?method?with?CR-39

neutron?dosimeter?using?in?neutron?logging

2002-04-08?发布 2002-06-01?实施

中华人民共和国卫生部 发布

前 言

根据《中华人民共和国职业病防治法》制定本标准。

中子测井技术是核技术在石油工业已广泛使用的技术，在我国也已使用多年。为推进该技术在

我国的顺利应用和推广，应进行中子剂量计的监测方法标准化、规范化，以利于放射防护，保障放

射工作人员的安全和健康。

本标准按照我国国情，对用于中子测井场所的?CR39?中子剂量计的个人剂量监测方法，制订了具

体要求。

本标准由卫生部提出并归口。

本标准起草单位：中国疾病预防控制中心辐射防护与核安全医学所。

本标准主要起草人：冯玉水 陆杨乔 李俊雯。

本标准由卫生部负责解释。

I

本标准适用于???Am-Be中子源测井场所工作人员的个人中子剂量监测。用于中子测井的

本标准适用于???Am-Be中子源测井场所工作人员的个人中子剂量监测。

中子剂量计的个人剂量监测方法 GBZ/T?148-2002

1?范围

本标准推荐了用于中子测井场所的?CR39?中子剂量计的个人剂量监测方法。

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2?规范性引用文件

下列文件中的条款通过在本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后

所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议

的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。

GB??12714 镅铍中子源

3?术语和定义

下列术语和定义适用于本标准。

3.1?固体核径迹探测器?solid?state?nuclear?track?detector

核粒子穿过绝缘体时，造成一定密度的辐射损伤，经适当处理，形成可观测的径迹，这种固体

称为固体核径迹探测器。

3.2?CR-39?径迹探测器?CR39?track?detector

用烯丙基二甘醇碳酸酯（品名?CR39）制成的核径迹探测器。按照测定程序，利用其在中子场经

累积照射形成的可观察径迹，在一定准确度内，可得到相应的当量剂量。它是固体核径迹探测器的

一种。

3.3?化学蚀刻?chemical?etching

固体核径迹探测器的辐射损伤经过化学试剂蚀刻形成可观察径迹的过程。

3.4?中子注量灵敏度?neutron?fluence?sensitivity

垂直入射的单位中子注量在剂量计单位面积上产生核径迹的概率。

3.5?中子当量剂量灵敏度?neutron?equivalent?dose?sensitivity

中子探测器单位面积上每单位当量剂量相应的径迹数。

3.6?中子剂量换算系数?neutron?dose?converson?coefficient

在各种照射条件下，用人形体模换算出的单位中子注量的当量剂量。

4?测量元件

CR39?个人中子剂量计由?CR39?径迹探测器和包装盒组成。

4.1??CR39?径迹探测器应具备对辐射损伤灵敏、高透明度、结构均匀、各向同性、热固性稳定和低

本底等特性。CR39?呈片状，其典型值厚?1mm，面积?10mm×20mm。

4.2??包装盒用硬质塑料制成，外形为圆柱体或长方体，一侧装有佩带针（夹），以便使用；其典型

值厚度为?5mm，面积为?55mm×35mm。

1

5.2.2 径迹密度通常采用视域读法，适用径迹密度通常在?10?—10?条/

5.2.2 径迹密度通常采用视域读法，适用径迹密度通常在?10?—10?条/?cm?范围内。在径迹密度过高

5.3.1?? 刻度中子源应与测井中子辐射场条件一致，通常用经过锰浴法刻度过的???Am-Be中子源（不

确定度小于?1%）。???Am-Be中子源应满足GB12714?的要求。

中暴露?1?年以上，其径迹保持稳定；在γ吸收剂量大于?10?Gy情况下，其本底不应有显著影响。

5.3.3?? 使用???Am-Be源，其中子强度应大于??10?中子/秒，其准确度应在±2%以内。剂量计与源的距

5.3.4?? 应用???Am-Be中子源作为刻度源，其当量剂量表达式为：

5.1??化学蚀刻

5.1.1 蚀刻装置由恒温箱和蚀刻杯组成。蚀刻装置要保持蚀刻液的温度和浓度的恒定，?有一定密

封性。恒温箱的温度变化应控制在?60℃±1℃内。蚀刻杯由耐腐蚀的不锈钢或玻璃制成。

5.1.2??蚀刻剂通常为氢氧化钠（NaOH）的水溶液和无水乙醇混合液。

5.1.3??常用蚀刻条件为?6.