2022201554743在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯涡旋光束的系统.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN219039498U

(45)授权公告日2023.05.16

(21)申请号202220155474.3

(22)申请日2022.01.20

(73)专利权人华南师范大学

地址510000广东省广州市中山大道西55

号

(72)发明人杨浩彬孙一丹王子瑜涂直锋

(74)专利代理机构广州容大知识产权代理事务

所(普通合伙)44326

专利代理师刘新年

(51)Int.Cl.

G02B27/09(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图2页

(54)实用新型名称

在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯

涡旋光束的系统

(57)摘要

本实用新型公开了一种在静态抛物势介质

中产生对称皮尔斯高斯漩涡光束的系统，包括氦

氖激光器、立方分束晶体、空间光调制器、空间滤

波系统和抛物势介质；通过空间光调制器，对立

方分束晶体中发射出的第一高斯光束进行调制，

并将经调制后的高斯光束反射至所述分束立方

晶体；所述空间滤波系统用于在光阑处(频谱面)

选取正一级干涉条纹，从而产生对称皮尔斯高斯

涡旋光束；所述抛物势介质用于提供光束传输所

需的外部环境，进行光束的轨迹外调制，此系统

具有成本低、装置简单、操作简便等优点，有效降

U低了入射光的衍射损耗，系统输出功率较大，节

8省成本，提高了效率，能够调整光束的强度分布

9

4

9和聚焦位置。

3

0

9

1

2

N

C

CN219039498U权利要求书1/1页

1.一种在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯涡旋光束的系统，其特征在于，包括

激光器、立方分束晶体、空间光调制器、空间滤波系统和抛物势介质；

所述激光器用于发射线偏振的高斯光束；

所述立方分束晶体用于首先将所述高斯光束分为第一高斯光束和第二高斯光束，其中

第一高斯光束发送至所述空间光调制器，在空间光调制器中经调制后产生对称皮尔斯高斯

光束；接着立方分束晶体接收该对称皮尔斯高斯光束，并将所述对称皮尔斯高斯光束和所

述第二高斯光束发送至所述空间滤波系统；

所述空间光调制器用于加载对称皮尔斯高斯涡旋光束和平面波干涉的相位掩模板，对

立方分束晶体中发射出的第一高斯光束进行调制，产生对称皮尔斯高斯光束，并将所述对

称皮尔斯高斯光束反射至所述立方分束晶体；

所述空间滤波系统用于在光阑处选取正一级干涉条纹，从而产生对称皮尔斯高斯涡旋

光束；

所述抛物势介质用于提供光束传输所需的外部环境，进行光束的轨迹外调制。

2.根据权利要求1所述的在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯涡旋光束的系统，

其特征在于，所述空间滤波系统包括第一傅里叶变换透镜、光阑和第二傅里叶透镜；

所述第一傅里叶变换透镜用于对所述对称皮尔斯高斯涡旋光束进行傅里叶变换；

所述光阑置于所述第一傅里叶变换透镜和第二傅里叶变换透镜之间，用于获取对称皮

尔斯高斯涡旋光束的正一级干涉条纹；

所述第二傅里叶变换透镜用于对所述光阑捕获的所述对称皮尔斯高斯光束的正一级

干涉条纹进行反傅里叶变换调制，获得对称皮尔斯高斯涡旋光束的初始光场。

3.根据权利要求1所述的在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯涡旋光束的系统，

其特征在于，所述在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯涡旋光束的系统还包括扩束准

直系统，所述扩束准直系统位于所述激光器和所述立方分束晶体之间，用于对所述高斯光

束进行扩束并且准直后，发送至所述立方分束晶体。

4.根据权利要求2所述的在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯高斯涡旋光束的系统，

其特征在于，所述在静态抛物势介质中产生对称皮尔斯