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材料分析复习题 名词解释 一.名词解释: 光电效应 质厚衬度X射线谱 特征 光电效应 质厚衬度 应 衍射衬度 连续谱 背散射电了 结构因数激发电压 等同晶面 明场成像暗场成像景深相干散射 非相干散射 短波限特征谱干涉血衬度 焦长 晶带 复型 标准零层倒易面相机常数多重性因子 吸收电子 光电效应：以光子激发原子所产生的激发和辐射过程称为光电效应。 质厚衬度：由试样的厚度和密度造成的衬度。 X射线谱：x射线管发出的x射线束的波长和强度的关系曲线。 特征X射线谱：在连续谱的基础上叠加若干条具有一?定波长的谱线，称为特征X 射线谱。它和可见光的单色相似，亦称单色X射线。 二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表而的样品的核外电子。 系统消光：因原子在晶体屮位置不同或原子种类不同而引起的某些方向上的衍射 线消失的现象称之为系统消光。 俄歇效应如果原子在入射的X射线光子的作用下，K层电子被击出，L层电子向 K层跃迁，其能量差不是以产生K系X射线光量子的形式释放，血是被邻近电子 所吸收，使这个电子受激发血逸出原子成为自由电子——俄歇电子（Auger electrons） o这种现象叫做俄歇效应。 衍射衬度：由于样品屮不同晶体（或同种晶体不同位向）衍射条件不同而造成的衬 度差别称为衍射衬度。 连续谱：具有连续波长的X射线，构成连续X射线谱，它和可见+ -光相似，亦称多色X射线。（或答：管压很低时，X射线谱的曲线是连续变化的, 称连续谱。） 背散射电子：背散射电子是被固体试样表面的原子核反射回来的一?部份入射电 子，包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。 结构因数F2： 反映了晶胞内原子种类、原子个数、原子位置 对（hkl）晶而衍射方向上衍射强度的影响。 焦长：物平而固定，在保证象清晰的条件下，像平面沿透镜主轴上下移动的距离。 （或答：透镜像平而允许的轴向偏差） 等同晶面：晶面间距相同，晶面上原子排列规律相同的晶面. 明场成像：让透射束通过物镜光阑，而把衍射束挡住得到图象衬度的方法叫明场 成像。 暗场成像：用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束，而只让一?束强衍射束通过光 阑参与成像的方法，称为喑场成像。 景深：透镜物平面允许的轴向偏差。即半像平面固定吋，在保证像清晰的条 件下，试样在物平面沿镜轴上下移动的最大距离。 ?相十散射 ?入射X射线光子与原子屮朿缚较紧的内层电子相碰撞，电子发生受迫振 动，向四周辐射电磁波，其辐射出电磁波的波长和频率与入射波完全相同, 新的散射波Z间将可以发生相互干涉 相干散射。 非相干散射当x射线光子与束缚力不大的原子外层电子相撞时，得到的散 射波的波长和频率与入射波不同，且随散射角增大而移向长波，它们不能 相互干涉。这种散射现象称为不相干散射。 短波限：在各种管压下的x射线连续谱都存在一个最短的波长值人，称为短波 限。 干涉而：为简化布拉格方程引入的实际存在或不存在的假想（虚拟）晶而。 衬度：在荧光屏上或照相底片上，眼睛能观察到的光强度或感光度的差别。 焦长：物平面固定，在保证像清晰的条件下，像平面沿透镜主轴上下移动的距离。 晶带在晶体屮，平行于某一晶向的所有晶面统称为一个晶带，这个晶向为晶带 轴。 复型：把由浸蚀产生的金相试样表而显微组织浮雕复制到一种很薄的膜上，然后 把复制薄膜放到透射电镜屮去观察分析，该薄膜称为复型。 标准零层倒易面:零层倒易面屮，去掉结构消光条件倒易点的倒易面。 相机常数：L2被称为相机常数，它是一个协调正、倒空间的比例常数。 多重性因子：等同晶而个数对衍射强度的影响因子叫多重性因子，用P表示。 吸收电子： 二填空 1 ?材料的性能由其内部的 决定 X射线的本质是 ，与所有的基木粒了一样，X射线具有_二彖性。波长较长的X 射线， 较低，穿透性弱，称为—X射线，可用于非金属的分析。 X射线的频率v、波长入以及其光子的能量￡、动量pZl'Hj存在如下关系：e= = K系特征谱线包含Ka和K0两种类型谱线，其屮波长XKa XKP ,能 量EKa EK B,强度IK a IK 3 （填大于，小于或等于） 当X射线照射物质时，其强度随透入深度呈 衰减。 一束X射线通过物质时，它的能量会分为三部分 、 、 o 非相干散射会增加连续背底,给衍射图象带来不利的影响 8?只有当入射x射线的波长入 XR时才能产生荧光辐射。 产生衍射必须满足布拉格方稈；在满足布拉格方程的方向并不一定都有衍射线发生。 用单色x射线照射多晶体粉末试样，衍射线分布在一组以入射线为轴的圆锥 面上。在垂直于入射线的平底片丄，得到一组同心圆。一般用以试样为轴的圆 筒底片来记录，可看到一系列的对称弧线。 获得衍射花样的基本方法有劳埃法、周转晶体法、粉末法。 结构振幅是以单个—散射能力为单位的、反映一个 散射能力的参量，是单位晶胞 中所有