解析SEM＆EDS分析原理及应用.pdf

检验与测试 Inspection＆Test 印制电路信息 2012No． 5 _解析S深E圳(M崇达&翟多青层E霞线路D黄板海有S蛟限分公刘司析，东广东刘原深克敢圳理581及132)应用 摘 要 从原理和应用实例方面对SEM&EDS在PCBfi~制程控制中的应用做 了简单介绍。 关键词 SEM；EDS；PCBSU程；分析原理 中图分类号：TN41 文献标识码 ：A 文章编号：1009—0096(2012)05—0066—05 Analysisthetheoryandapplication0fSEM andEDSanalyticalmethod ZHAIQing-xia HUANGHai-jiao LIUDong LIUKe—rain Abstract Thispapersimply introducedtheuseofSEM andEDSanalyticalmethodsduringthe manufacturingprocess，throughtheintroductionoftheoryandusingexamples． Keywords SEM；EDS；PCBManufacturingProcess；Analysisprinciple l 刖 舌 能快速 、同时对各种试样的微区内的所有元素进行 定性、定量分析。SEM&EDS在定性、定量分析时， 近年来 ，半导体大规模集成 电路技术迅速发展 ， 是利用束径 (10～1)Ixm范 围的高能电子束 ，激发出 电子设备向着轻量化、小型化和多功能化方向转变， 试样pm范围的各种信息，进行成份 、形貌等分析 。 致使PCB加工层次也越来越高，产品对PCB导线覆盖 成分分析的空间分辨率在立方 m范围，微区分析是 的完整性及信号传输特性提出了更高的要求，PCB可 其重要特点之一，它能将微区化学成份与显微结构 靠性分析成为验证制作技术和品质的必要条件 。 对应起来 ，是一种显微结构的分析。 SEM&EDS (扫描 电子显微镜和x．射线能量色散 谱方法)分析法 以其先进的分析理念和高效准确的分 2．1 X一射线能谱 (EDS)分析原理 析过程，已经被各个行业所应用。我国在1958年成功 2．1．1 特征x一射线的产生 地研制了第一台电子显微镜，SEM的景深大，放大 倍率连续可变，适用于研究微小物体的立体形态和表 特征x．射线的产生是入射 电子使 内层壳电子激 面的微观结构；EDS可测元素范围大，且对分析物不 发而发生的现象。当内层 电子被轰击后跳到比费米 造成损伤。 能级高的能级上 ，电子轨道 内出现 的空位被外壳层 以下将从原理和应用实例等方面对SEM&EDS在 轨道的电子填入时，作为多余能量放 出的就是特征 PCB的制程控制中的应用做简单介绍。 x．射线。高能级的电子落入空位时，要遵从所谓的 选择规则 (Selec